实践证明,再生和清洗的温度对于工型强碱性阴树脂为35~50℃ ii型为(35士3)℃在动态阴离子交换过程中,hsio-3在树脂层中的分布情况与其他阴离子有些不同。hsio-3虽然主要是被下层的阴树脂吸附着,但就是在上层的树脂中也有少量吸附。同理,再生时,树脂软化水设备中硅(silicon)---(hydrogen)根被置换出来的速度也就比较缓慢。碱液不加热要增加再生剂的耗量。
改变盐吸收和缓慢洗涤(再生和更换)的时间:在再生转盘上,从0开始,组销钉后的孔用于控制盐吸收和缓慢洗涤的时间。每个孔相当于2分钟,增---增加减少孔的数量会改变再生盐吸收的时间,并缩短洗液更换时间。 (调整时,移动第二组螺栓的位置以增加或减少孔)
更改快速冲洗(正向冲洗)时间:在再生转盘上,从0开始,第二组中的销数将控制快速冲洗时间的长度。每次添加或移除塞子,快速冲洗时间将增加/减少两分钟。
更改盐罐注水时间:从再生刻度盘的0开始,第二组螺栓后的孔数是控制盐罐注水的时间。每次添加/减少孔时,盐罐填充时间都会增加或减少两分钟。调整时,移动第三组螺栓的位置以完成需要。第三组销(第二组销孔末端的两个销)是用于终止再生程序的销。
当外部微型开关在盐罐注水时间的塞孔末端松开两个销钉时,再生程序终止,但是再生拨盘将继续旋转,直到盐缸注水口的接触臂为止。内部的微动开关转到再生拨盘的编号间隙(0-160之间)。
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